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光刻
采用熱掃描探針光刻和激光直寫(xiě)相結(jié)合的方法快速制備點(diǎn)接觸量子點(diǎn)硅基晶體管(2019-02-27)
制造高品質(zhì)的固態(tài)硅基量子器件要求高分辨率的圖形書(shū)寫(xiě)技術(shù)，同時(shí)要避免對(duì)基底材料的損害。來(lái)自IBM實(shí)驗(yàn)室的Rawlings等人利用SwissLitho公司生產(chǎn)的3D納米結(jié)構(gòu)高速直寫(xiě)機(jī)NanoFrazor，結(jié)合其高分辨熱探…[詳情]
我國(guó)成功研制新型中紫外直接光刻機(jī)(2017-04-18)
近日，一種新型的中紫外直接光刻機(jī)由中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所微電子專用設(shè)備研發(fā)團(tuán)隊(duì)在國(guó)內(nèi)研制成功。該設(shè)備采用特有的高均勻、高準(zhǔn)直中紫外照明技術(shù)，結(jié)合光敏玻璃材料，實(shí)現(xiàn)基于光敏玻璃基底的微…[詳情]