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半導體高純PFA閥門 | 隨著半導體制造工藝不斷向5納米及更先進節點邁進，對高純PFA閥門的性能要求呈現出指數級提升。在極紫外光刻(EUV)和原子層沉積(ALD)等關鍵制程中，閥門不僅需要維持10ppt級別的超低金屬離 |
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