小型濺射儀問題解答
作者：宋工 來源：原創 2023-11-04 瀏覽量：87
字號：T | T
最近小伙伴對于濺射儀使用和技術參數問的問題比較多，今天總結一下濺射儀的一些常見的技術問題：
小型濺射儀儀問儀答
最近小伙伴對于濺射儀使用和技術參數問的問題比較多，今天總結一下濺射儀的一些常見的技術問題：
1、膜厚檢測儀原理：膜厚監測儀是采用石英晶體振蕩原理，利用頻率測量技術加上先進的數學算法，進行膜厚的在線鍍膜速率和實時厚度計算。主要應用于MBE、OLED或金屬熱蒸發、磁控濺射設備的薄膜制備過程中，對膜層厚度及鍍膜速率進行實時監測。
2、濺射儀是否可以鍍鎳：可以鍍鎳 但是 鎳是導磁金屬 所以 需要靶材盡量薄 0.5mm-1mm最好 太厚磁場無法穿透 濺射速率很低。
3、直流濺射鍍膜調節：1 靶材需要良好的導電性, 如果具備這個條件 可以鍍 2 遇到容易氧化的金屬 需要配備分子泵把本底真空抽到1E-3Pa 放氬氣維持真空到1Pa左右鍍膜的金屬接近本色。
鄭科探小型濺射儀KT-Z1650PVD
以上是小伙伴近期問的比較多的問題，如果還有什么問題歡迎咨詢。