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化學品供應系統 供酸系統 半導體CSE-CDS自動供液系統 濕法刻蝕清洗 槽車沖填CCB VMB閥箱化工廠分析室設計 化學品供應系統 供酸系統 半導體CSE-CDS自動供液系統 濕法刻蝕清洗 槽車沖填CCB VMB閥箱化工廠分析室設計 本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經管道至設備;具有自動化程度高、配比精確、操作簡便等特點,具有良好的耐腐蝕性能。 控制模式:手動控制模式、自動控制模式。
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