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產地:

規格:電源模塊SA811F-115/230V-24VDC

公司所在地:福建廈門

電話:18020776785

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詳細信息

電源模塊SA811F-115/230V-24VDC的簡單介紹

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PLC控制系統中電磁干擾的主要來源

1)來自空間的輻射干干擾

空間的輻射電磁場(EMI)主要是由電力網絡、電氣設備的暫態過程、雷電、無線電廣播、電視、雷達、高頻感應加熱設備等產生的,通常稱為輻射干擾,其分布極為復雜。若PLC系統置于所射頻場內,就回收到輻射干擾,其影響主要通過兩條路徑:一是直接對PLC內部的輻射,由電路感應產生干擾;而是對PLC通信內網絡的輻射,由通信線路的感應引入干擾。輻射干擾與現場設備布置及設備所產生的電磁場大小,特別是頻率有關,一般通過設置屏蔽電纜和PLC局部屏蔽及高壓泄放元件進行保護。

2)來自系統外引線的干擾

主要通過電源和信號線引入,通常稱為傳導干擾。這種干擾在我國工業現場較嚴重。

來自電源的干擾

實踐證明,因電源引入的干擾造成PLC控制系統故障的情況很多,筆者在某工程調試中遇到過,后更換隔離性能更高的PLC電源,問題才得到解決。

PLC系統的正常供電電源均由電網供電。由于電網覆蓋范圍廣,它將受到所有空間電磁干擾而在線路上感應電壓和電路。



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